
Диапазон цен на продукцию: 200 000–2 500 000 юаней
Подходит для вакуумного осаждения субоксида кремния (SiO₂) для анодов аккумуляторов.
• Субооксид кремния (SiO₂) является распространённым сырьем для литий-ионных аккумуляторов с относительно низкой себестоимостью производства. Однако традиционные вакуумные печи для SiO₂ имеют такие недостатки, как блокировка переходной зоны и проблемы с давлением газа и температурой в зоне сбора во время высокотемпературной реакции/испарения, что может привести к недостаточному сбору высокотемпературной реакции и низкому выходу продукта. Вакуумная печь для SiO₂ второго поколения нашей компании эффективно решает эти проблемы в процессе получения SiO₂.
• Высокая рабочая температура: максимальная рабочая температура: 1500 ℃.
• Оборудование имеет конструкцию, оптимизированную для постоянного температурного поля, и использует резистивный графитовый стержень (пластину) или индукционный нагрев IGBT, что обеспечивает равномерное температурное поле внутри печи.
• Оснащен программируемым контроллером и человеко-машинным интерфейсом, что обеспечивает полностью автоматизированную работу и мониторинг как в автоматическом, так и в ручном режиме.
• Высокая безопасность: автоматическое управление и защита воды, электричества и газа на базе ПЛК, включая защиту от перегрева, давления воды, расхода воды, избыточного давления в печи и температуры воды.
Конфигурация: горизонтальная или вертикальная
Максимальная рабочая температура: 1500 °C
Объем высокотемпературной зоны: настраивается в соответствии с требованиями пользователя
Рабочая среда печи: вакуум, азот, аргон
Равномерность температуры: ≤±5 °C
Точность измерения температуры: 0,1%–0,5%
Метод измерения температуры: вольфрам-рениевая термопара
Метод управления: ПИД-регулятор с сегментированной программой и ручное управление
| Характеристики модели продукта | ZY-YHG-450 | ZY-YHG-600 | ZY-YHG-W500 | ZY-YHG-W600 |
| Размеры и объём (мм) | Φ450×H800
127L |
Φ600×H1300
367L |
500×500×1500
375L |
600×600×2000
720L |
| Максимальная рабочая температура (°C) | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
| Предельная температура (°C) | 40 | 70 | 100 | 150 |
| Установленная мощность (кВт) | 40 | 80 | 150 | 200 |
| Разница температур в зоне высоких температур (°C) | ±5 | ±5 | ±5 | ±7 |
| Способ регулирования температуры | ПИД-регулятор с сегментированным программным управлением и ручным управлением (Japan Electromechanical Instruments) | |||
| Способ нагрева | Графитовый стержень (пластина) сопротивления или индукционный нагрев IGBT | |||
| Рабочая среда | Вакуум, азот, аргон | |||
| Предельный вакуум (Па) | 5 (Пустая печь, холодное состояние) (или по индивидуальному заказу в соответствии с требованиями заказчика) | |||